MEMS技術(shù)被認(rèn)為是一項(xiàng)革命性技術(shù)，給光通信領(lǐng)域的應(yīng)用帶來了一系列前所未有的MEMS研究熱潮．這些研究被稱為MOEMS〔微光學(xué)電子機(jī)械系統(tǒng)〕。人們對MEMS光開關(guān)研究始于20世紀(jì)90年代中期．雖然起步較晚，但發(fā)展較快，而且研究單位和研究者眾多．成為一種最流行的光開關(guān)制作技術(shù)．貝爾實(shí)驗(yàn)室的“跌撓板”式光開關(guān)，被稱為世界上第一個(gè)有實(shí)用價(jià)值的MEMS光開關(guān)；美國的OMM公司的“Cros-GuaN”光開關(guān)號(hào)稱世界第一個(gè)MEMS光開關(guān)，該公司的小陣列(4×4和8×8)光開關(guān)產(chǎn)品已進(jìn)入實(shí)用階段，大于32×32陣列的光開關(guān)也在開發(fā)之中；另外。美國的Onix公司也制作了基于微鏡技術(shù)的光開關(guān)，其中微鏡技術(shù)是該公司的專利技術(shù)．在MEMS光開關(guān)的制作中，這些國外的研究單位和公司大多采用了MEMS平面工藝。 5RKs2eV  
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一般說來，MEMS光開關(guān)從空間結(jié)構(gòu)上可分成這樣兩種，即2D開關(guān)和3D開關(guān)。這兩種結(jié)構(gòu)在如何控制和引導(dǎo)光束的能力方面有很大的差別，可以在光通訊網(wǎng)絡(luò)中發(fā)揮各自不同的作用。在2D開關(guān)中，微鏡的排列只有兩個(gè)位置，即開和關(guān)兩種狀態(tài)，其結(jié)構(gòu)如圖3所示。這樣極大地減化了控制電路的設(shè)計(jì)，一般只需提供足夠的驅(qū)動(dòng)電壓使微鏡發(fā)生動(dòng)作即可。但是當(dāng)要擴(kuò)展成大型光開關(guān)陣列時(shí)，這種結(jié)構(gòu)的弱點(diǎn)便顯露出來了。因?yàn)楦鱾�(gè)輸入輸出端口之間的光路傳輸距離各有不同，所以各端口的插入損耗也不同，這就使2D光開關(guān)只能用在端口較少的環(huán)路里。這種二維光開關(guān)陣列插人損耗小于4dB，開關(guān)時(shí)間小于10ms。由于受光程損耗的限制，最大可以實(shí)現(xiàn)32x32端口。如果要想實(shí)現(xiàn)更高端口密度，則在技術(shù)上十分困難。