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    [討論]冷卻水對(duì)晶控的影響 [復(fù)制鏈接]

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    離線(xiàn)liyungang
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2014-02-10
    各位，冷卻水對(duì)晶控有多大影響，討論下。
     
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    離線(xiàn)morningtech
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2014-02-13
    對(duì)于A(yíng)T切割晶振片，冷卻水溫度一般在20幾度。 IKT3T_\-I  
    正常流量情況下， CmyCne   
    冷卻水溫度過(guò)低， 則晶振片上膜層應(yīng)力大，不利于鍍厚膜。 N#(p_7M  
    冷卻水溫度過(guò)高，雖可鍍膜厚增加，但晶振片溫度高，導(dǎo)致進(jìn)入較大的溫度頻率效應(yīng)區(qū)域，厚度精度將下降。 V/C":!;