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h6!o,qw" Ri,8rf0u 【ZEMAX光學設計軟件操作說明詳解】
}v0I zGKs Rp#9T?i``[ 介紹
m?Gb5=qo 這一章對本手冊的習慣用法和術語進行說明。ZEMAX使用的大部分習慣用法和術語與光學行業(yè)都是一致的，但是還是有一些重要的不同點。
2>s@2=Aq 活動結構
1' #%U A 活動結構是指當前在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中顯示的結構。詳見“多重結構”這一章。
DYvi1X6 角放大率
Cm4$&? 像空間近軸主光線與物空間近軸主光線角度之比，角度的測量是以近軸入瞳和出瞳的位置為基準。
?K<m.+4b*y 切跡
8}Pd- .se 切跡指系統(tǒng)入瞳處照明的均勻性。默認情況下，入瞳處是照明均勻的。然而，有時入瞳需要不均勻的照明。為此，ZEMAX支持入瞳切跡，也就是入瞳振幅的變化。
>E;&S X 有三種類型的切跡：均勻分布，高斯型分布和切線分布。對每一種分布（均勻分布除外），切跡因素取決于入瞳處的振幅變化率。在“系統(tǒng)菜單”這一章中有關于切跡類型和因子的討論。
-0KQR{LI ZEMAX也支持用戶定義切跡類型。這可以用于任意表面。表面的切跡不同于入瞳切跡，因為表面不需要放置在入瞳處。對于表面切跡的更多信息，請參看“表面類型”這一章的“用戶定義表面”這節(jié)。
HJY_l 后焦距
69Y>iPRU ZEMAX對后焦距的定義是沿著Z軸的方向從最后一個玻璃面計算到與無限遠物體共軛的近軸像面的距離。如果沒有玻璃面，后焦距就是從第一面到無限遠物體共軛的近軸像面的距離。
Y( >]7 基面
7\'ow|)}v 基面（又稱叫基點）指一些特殊的共軛位置，這些位置對應的物像平面具有特定的放大率�；姘ㄖ髅�，對應的物像面垂軸放大率為＋1；負主面，垂軸放大率為－1；節(jié)平面，對應于角放大率為+1；負節(jié)平面，角放大率為－1；焦平面，象空間焦平面放大率為0，物空間焦平面放大率為無窮大。
6B4s6 除焦平面外，所有的基面都對應一對共軛面。比如，像空間主面與物空間主面相共軛，等等。如果透鏡系統(tǒng)物空間和像空間介質的折射率相同，那么節(jié)面與主面重合。
X@,xwsM%tb ZEMAX列出了從象平面到不同象方位置的距離，同時也列出了從第一面到不同物方平面的距離。
_IAvFJI 主光線
yFt'<{z[nL 如果沒有漸暈，也沒有像差，主光線指以一定視場角入射的一束光線中，通過入瞳中央射到象平面的那一條。注意，沒有漸暈和像差時，任何穿過入瞳中央的光線也一定會通過光闌和出瞳的中心。
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