我國研究人員在硅上研制出第三代半導(dǎo)體氮化鎵基激光器
中科院蘇州納米技術(shù)與納米仿生所研究員楊輝團(tuán)隊在硅上研制出第三代半導(dǎo)體氮化鎵基激光器,這也是世界上第一支可以在室溫下連續(xù)工作的硅襯底氮化鎵基激光器。相關(guān)研究成果近日刊登在《自然—光子學(xué)》。 隨著半導(dǎo)體科技的高速發(fā)展,科技工作者發(fā)現(xiàn)基于傳統(tǒng)技術(shù)路線來進(jìn)行芯片與系統(tǒng)之間的數(shù)據(jù)通信越來越難以滿足更快的通信速度以及更高的系統(tǒng)復(fù)雜度的需求。第三代半導(dǎo)體氮化鎵在發(fā)光二極管LED和激光器等發(fā)光器件領(lǐng)域已經(jīng)實現(xiàn)了廣泛應(yīng)用,為人類的高效節(jié)能照明作出了巨大貢獻(xiàn)。 然而,由于第三代半導(dǎo)體氮化鎵的熱膨脹系數(shù)約是硅的兩倍,在硅襯底上高溫(1000℃左右)生長沉積的氮化鎵材料在降溫時傾向于快速收縮,受到硅襯底向外拉扯的巨大張應(yīng)力,因此氮化鎵材料在降到室溫過程中通常會發(fā)生龜裂,產(chǎn)生的微裂紋和其他缺陷嚴(yán)重影響材料質(zhì)量和器件性能。 |