摘要:
微納光學(xué)結(jié)構(gòu)技術(shù)是指通過(guò)在
材料中引入微納光學(xué)結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)新型光學(xué)功能器件。其中表面等離子體光學(xué)、人工負(fù)折射率材料、隱身結(jié)構(gòu),都是通過(guò)引入微納結(jié)構(gòu)控制光的衍射和傳播,從而實(shí)現(xiàn)新的光學(xué)性能。從這個(gè)角度來(lái)講,微納光學(xué)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)和制造是微納光學(xué)發(fā)展的共性關(guān)鍵技術(shù)問題,微納光學(xué)是新型光電子產(chǎn)業(yè)的重要發(fā)展方向。
.B+Bl/ o5@d1A 關(guān)鍵字:微納光學(xué) ;
納米制造;微納光學(xué)產(chǎn)業(yè);
XnwVK 7"_m?c8 Abstract: Micro-nano optical structure technology refers to through the introduction of micro-nano optical structure in the material, implement new optical functional devices. The surface plasmon optics, artificial negative refractive index materials, stealth structure, through the introduction of micro-nano structure control of light diffraction and transmission, so as to realize the new optical performance. From this perspective, micro-nano optical structure design and manufacture is the universal key technical problems in the development of micro-nano optics, micro-nano optics is a new important development direction of optoelectronic industry.
QGCg~TV; > `1K0?_ Key words : micro-nano optics; nanofabrication; micro-nano optical industry
=ea'G>;[H -Qy@-s $ 1.微納光學(xué)技術(shù)的多種應(yīng)用 a
Xn:hn~O k/Z]zZC 1)加工新型光柵 QO/nUl0E :'
=le*h 借助于大規(guī)模集成電路工藝技術(shù),可以加工出新型的光柵。光柵是個(gè)實(shí)用性很強(qiáng)的基本光學(xué)器件,在23ARTICLE | 論文
激光與光電子學(xué)進(jìn)展2009.10光譜儀、光通信波分復(fù)用器件、激光聚變工程、光譜分析等領(lǐng)域中大量使用。傳統(tǒng)的表面光柵不論是機(jī)械刻畫光柵,還是全息光柵,其表面的光柵結(jié)構(gòu)是很薄的。明膠或光折變體全息光柵的光柵厚度較厚,由于制造工藝的一致性、溫度穩(wěn)定性和長(zhǎng)期穩(wěn)定性問題,在實(shí)際應(yīng)用時(shí)仍然有限制。
}6'%p Bd #0"Pd8@ 2)制作深刻蝕亞波長(zhǎng)光柵 :@RX}rKG b FMBIA| 采用激光全息、光刻工藝和
半導(dǎo)體干法刻蝕工藝可以加工出深刻蝕亞波長(zhǎng)光柵。其簡(jiǎn)化的基本工藝流程如圖 1 所示。首先,采用激光全息產(chǎn)生高密度光柵的光場(chǎng);其次,通過(guò)光刻工藝,在光刻膠上做出光柵掩模;最后,通過(guò)反應(yīng)離子或高密度等離子體等半導(dǎo)體干法刻蝕技術(shù),加工出深刻蝕的表面光柵。
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en_W4\7^ 圖 1.利用微電子光刻與刻蝕工藝、激光全息技術(shù)等,加工深蝕光柵的工藝流程
bhl9:`s 通過(guò)在普通石英玻璃中引入深刻蝕光柵結(jié)構(gòu),如圖 2 所示,就可以實(shí)現(xiàn)一系列實(shí)用的光學(xué)器件。圖 2(a)所示的高效率光柵,衍射效率理論值為 98%,可以實(shí)現(xiàn)偏振無(wú)關(guān)結(jié)構(gòu),也就是對(duì)于 TE,TM 偏振入射光均可以實(shí)現(xiàn)很高的衍射效率。圖 2(b)所示為偏振分束器件,也就是將 TE,TM 偏振方向的光完全分開,表現(xiàn)出類似于晶體的偏振分光性能。圖 2(c) 所示為在二次布拉格角度下工作的分束光柵。圖 2(d) 所示為高效率 1×3 分束器,衍射效率可以高達(dá) 98%,和商品化的 1×3 分束器(衍射效率 75%)相比,衍射效率要高出23%, 具有重要的應(yīng)用前景。
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