8.退出 Edit Part 模式，點(diǎn)擊繪圖區(qū)域右上方的按鈕。

圖八. 用于返回裝配體，位于繪圖區(qū)右上方的按鈕

分析你的光機(jī)系統(tǒng)

1.在 LensMechanix 選項(xiàng)下，點(diǎn)擊 Create Prototype > Create Prototype Wizard。

圖九. Command Manager 中的 Create Prototype Wizard

2.為本次分析命名，輸入 Ray Trace 并點(diǎn)擊 Next。

3.在 Analysis Settings 頁面， 將Overfill clear aperture 設(shè)置為 10%，選擇Image quality + scattering，并點(diǎn)擊Next。

4.在 Ambient Conditions 頁面，設(shè)定 25°C 以及 1 ATM并點(diǎn)擊 Next。

5.在Wavelength頁面， 點(diǎn)擊 Next。

6.在 Surface Properties 頁面，點(diǎn)擊 Next。

7.在 Precision Settings 頁面，將滑塊放置在位置 2 并點(diǎn)擊 Next。

注意：Medium 柵格設(shè)置對應(yīng)100,000 條光線，而散射分布取樣為 5 度。

8.在 Allowable Delta 頁面，添加以下數(shù)值：

Spot size: 1.5 mm

Beam clipping: 1%

Image contamination: 0.8%

9.點(diǎn)擊 Next。

10.確保所有元件展示在Computational Domain的Included Components 區(qū)域。

注意：如有任何元件位于 Ignored Components 區(qū)域，右鍵單擊該機(jī)械元件，點(diǎn)擊 Add to Computational Domain，然后點(diǎn)擊綠色打勾符號。 

圖十. Computational Domain 中的元件