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光學(xué)顯微鏡OM成像原理 光學(xué)顯微鏡(OM) 技術(shù)原理 光學(xué)顯微鏡的成像原理，是利用可見(jiàn)光照射在試片表面造成局部散射或反射來(lái)形成不同的對(duì)比，然而因?yàn)榭梢?jiàn)光的波長(zhǎng)高達(dá)4000-7000埃，在解析度(或謂鑒別率、解像能，系指兩點(diǎn)能被分辨的最近距離)的考量上，自然是最差的。在一般的操作下，由于肉眼的鑒別率僅有0.2 mm，當(dāng)光學(xué)顯微鏡的最佳解析度只有0.2 um 時(shí)，理論上的最高放大倍率只有1000 X，放大倍率有限，但視野卻反而是各種成像系統(tǒng)中最大的，這說(shuō)明了光學(xué)顯微鏡的觀察事實(shí)上仍能提供許多初步的結(jié)構(gòu)資料。 機(jī)臺(tái)種類 分析應(yīng)用 光學(xué)顯微鏡的放大倍率及解析度，雖無(wú)法滿足許多材料表面觀察之需求，但仍廣泛應(yīng)用于下列之各項(xiàng)應(yīng)用，諸如： 元件橫截面結(jié)構(gòu)觀察； 平面式去層次 (Delayer) 結(jié)構(gòu)分析與觀察； 析出物空乏區(qū) (Precipitate Free Zone) 的觀察； 差排線與過(guò)蝕刻(Overetch)凹痕的觀察； 氧化疊差(Oxidation Enhanced Stacking Faults, OSF)的研究等。 |
