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掃描電鏡SEM工作原理

發(fā)布:探針臺 2020-02-19 14:42 閱讀:1994
掃描電鏡成象 M5B# TAybC  
次級電子和背散射電子可以用于成象,但后者不如前者,所以通常使用次級電子。 }JfjX '  
表面分析 Dq xs+  
歐革電子、特征X射線、背散射電子的產生過程均與樣品原子性質有關,所以可以用于成分分析。但由于電子束只能穿透樣品表面很淺的一層(參見作用體積),所以只能用于表面分析。 u2I Cl  
表面分析以特征X射線分析最常用,所用到的探測器有兩種:能譜分析儀與波譜分析儀。前者速度快但精度不高,后者非常精確,可以檢測到“痕跡元素”的存在但耗時太長。 [aS*%Heu  
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掃描電鏡SEM工作原理 :&Nbw  
SEM的工作原理是用一束極細的電子束掃描樣品,在樣品表面激發(fā)出次級電子,次級電子的多少與電子束入射角有關,也就是說與樣品的表面結構有關,次級電子由探測體收集,并在那里被閃爍器轉變?yōu)楣庑盘,再?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=光電',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_10">光電倍增管和放大器轉變?yōu)殡娦盘杹砜刂茻晒馄辽想娮邮膹姸,顯示出與電子束同步的掃描圖像。圖像為立體形象,反映了標本的表面結構。為了使標本表面發(fā)射出次級電子,標本在固定、脫水后,要噴涂上一層重金屬微粒,重金屬在電子束的轟擊下發(fā)出次級電子信號。 9uY'E'm*  
芯片失效分析實驗室介紹,能夠依據(jù)國際、國內和行業(yè)標準實施檢測工作,開展從底層芯片到實際產品,從物理到邏輯全面的檢測工作,提供芯片預處理、側信道攻擊、光攻擊、侵入式攻擊、環(huán)境、電壓毛刺攻擊、電磁注入、放射線注入、物理安全、邏輯安全、功能、兼容性和多點激光注入等安全檢測服務,同時可開展模擬重現(xiàn)智能產品失效的現(xiàn)象,找出失效原因的失效分析檢測服務,主要包括點針工作站(Probe Station)、反應離子刻蝕(RIE)、微漏電偵測系統(tǒng)(EMMI)、X-Ray檢測,缺陷切割觀察系統(tǒng)(FIB系統(tǒng))等檢測試驗。實現(xiàn)對智能產品質量的評估及分析,為智能裝備產品的芯片、嵌入式軟件以及應用提供質量保證。 0:+E-^X  
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國家應用軟件產品質量監(jiān)督檢驗中心 J,G lIv.A  
北京軟件產品質量檢測檢驗中心 6zkaOA46V  
智能產品檢測部 $kgVa^  
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