公司介紹 ;79X
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牛津儀器為客戶提供靈活，可配置的加工工具，以及針對精確，可控和可重復(fù)蝕刻，沉積，微米-納米結(jié)構(gòu)生長的前沿工藝。 4:\s.Z{!3  
　　牛津儀器的刻蝕、沉積和生長系統(tǒng)可以為材料的微米、納米級工程提供工藝方法，可以應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、MEMS和微流體、高質(zhì)量光學(xué)涂層及其他多種微納技術(shù)領(lǐng)域。 m6aq_u{W  
　　這些解決方案是基于如下核心技術(shù)：等離子體刻蝕和沉積;原子層沉積(ALD); 離子束蝕刻&沉積;深硅刻蝕系統(tǒng);磁控濺射 uiO7sf6  
　　產(chǎn)品范圍包括單機研發(fā)系統(tǒng)、批處理設(shè)備直到具備大規(guī)模生產(chǎn)能力的片盒到片盒設(shè)備。 tHS
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　　研討會主題：使用創(chuàng)新等離子加工技術(shù)蝕刻圖形藍(lán)寶石襯底(PSS) +Y!9)~f}7X  
　　舉辦時間：2015年6月4日 下午15:00-16:00 ,x| 4nk_  
　　舉行公司：牛津儀器 v;S7i>\  
　　研討會簡介： kL.JrbM"  
　　LED行業(yè)對提高經(jīng)營成本的積極性推動了牛津儀器的離子技術(shù)創(chuàng)新。經(jīng)過優(yōu)化的離子體工序為提高器件產(chǎn)量和降低制造成本提供許多途徑，達(dá)到一石二鳥的效果。LED制造商需要關(guān)鍵的離子體蝕刻步驟(圖案化藍(lán)寶石襯底(PSS)和GaN刻蝕)和沉積步驟進(jìn)行鈍化，電流阻擋以及掩模制作。這些都是通過各種技術(shù)，例如等離子體增強化學(xué)沉積(PECVD)來進(jìn)行。本次研討會闡述了通過提高加工率以及同時增加處理晶片的數(shù)量的方法，以提高這些工序的生產(chǎn)效率。 ~jab/cR  
　　研討會議程： r\y~ :  
　　1. 5分鐘介紹 - OFweek主持人; |x|#n  
　　2. 演講1： 20分鐘 – Dr MarkDineen《使用創(chuàng)新量子加工技術(shù)蝕刻圖形藍(lán)寶石襯底(PSS)》(英文版本); IqK??KSC  
　　3. 演講2：20分鐘 – Dr YoungHuang《使用創(chuàng)新量子加工技術(shù)蝕刻圖形藍(lán)寶石襯底(PSS)》(中文版本); $oO9N^6yF  
　　4. 問答環(huán)節(jié) - 20分鐘。 P8K{K:T  
　　參會請登錄：t.cn/RABTvu9 ]8(_{@/